שת"פ ישראלי-סיני במכון הננו-טכנולוגיה בבר-אילן

האקדמיה הלאומית הסינית למדעים (CAS) והמכון הננו טכנולוגיה וחומרים מתקדמים של אוניברסיטת בר אילן (BINA) חתמו היום (ג') בבייג'ינג על הסכם שיתוף פעולה, שבמסגרתו יוקם באוניברסיטה מרכז מצוינות סיני.

טקס החתימה בסין(צילום: טיאן מיי)

באוניברסיטת בר-אילן אמרו כי המעבדה, שתשלב חוקרים ממכוני מחקר נוספים בארץ, תתמקד בחקר תחומי הננו-רפואה, הנדסת חומרים דו מימדיים (2D) ובמיוחד הפקת וייצור הגראפן. באמצעותו תוכל המעבדה להדפיס מסכים מתקפלים בעובי עשירית הננו מטר.

משימתה העיקרית של מעבדת המחקר המשותפת, מסבירים יוזמי ההסכם, תהיה לשלב עבודת צוות של חוקרים סיניים וישראלים ואליהם יצטרפו תעשיינים משתי המדינות. שילוב התעשיינים, בסופו של התהליך, כך לפי ההודעה של אוניברסיטת בר-אילן, נועד לתרגם את המחקרים התיאורטיים במעבדות הסטריליות המתמחות בחומרים ננו-רפואיים ובגראפן ולהעביר אותם לשלב הבא הפרקטי, כלומר למוצר צריכה זמין.

חברי המשלחת מישראל עם המארחים מסין(צילום: טיאן מיי)

"שיתוף פעולה משמעותי זה, בהיקף השקעה של כמה מיליוני יואן, נועד בסופו של דבר לייצר הזדמנויות למשרות חדשות. יוזמה שתוביל לצמיחה הכלכלית של סין וגם של ישראל", הסביר פרופ' דרור פיקסלר, ראש המכון לננו טכנולוגיה של אוניברסיטת בר-אילן ומאדריכלי היוזמה.

לטקס החתימה בסין יצאה משלחת המונה 13 חוקרי וחברי צוות המכון לננוטכנולוגיה ולחומרים מתקדמים. המשלחת כוללת את פרופ' דרור פיקסלר ראש המכון, פרופ' זאב זלבסקי , פרופ' דיוד זייתון, פרופ' אהוד בנין, פרופ' ירון שב-טל, פרופ' רחלה פופובצר, פרופ' דורון גרבר, פרופ' יצחק מסתאי, פרופ' יובל גרעיני, ד"ר יוסי טל יוסף - מנהל המכון וד"ר דניאלה גורביץ' המשנה לראש המכון.